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芯片、半导体与集成电路之间的区别详细分析与芯片封装清洗介绍

👁 2016 Tags:半导体制造工艺芯片封装清洗剂W3800

一、芯片、半导体与集成电路的定义和特点

(一)半导体

  1. 定义

    • 半导体(semiconductor)指常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料。例如,常见的导体金、银、铜、铁等导电性良好,而像煤、人工晶体、琥珀、陶瓷等是导电性差的绝缘体,半导体则处于两者之间。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,其中硅在商业应用上最具影响力。

  2. 特点

    • 导电性可控制:半导体的导电性不是固定不变的,可以通过掺杂等方式来改变其电学性质。例如,在硅中掺入少量的磷元素,会使硅变成N型半导体,电子为多数载流子,空穴为少数载流子;如果掺入硼元素,则变成P型半导体,空穴为多数载流子,电子为少数载流子。这种可控制的导电性使得半导体能够用于制造各种电子器件,如二极管、晶体管等。

    • 对温度和光照敏感:半导体的电学性能会随着温度和光照等外界因素的变化而改变。例如,温度升高时,半导体的本征载流子浓度会增加,从而影响其导电性。某些半导体材料(如光敏电阻所使用的硫化镉等)在光照下,其电阻会发生显著变化,这一特性被广泛应用于光传感器等器件的制造中。

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    • 多种物理效应:半导体具有多种特殊的物理效应,如光电效应、压阻效应等。基于光电效应,可以制造出光电二极管、太阳能电池等器件;利用压阻效应,可制造出压敏电阻等用于压力测量等方面的元件。

(二)集成电路

  1. 定义

    • 集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件或部件。它采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,全部集成在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构。例如,现代手机中的处理器芯片就是高度集成化的集成电路,内部集成了数以亿计的晶体管等元件,实现了数据处理、信号控制等多种功能。

  2. 特点

    • 微型化:将众多的电子元件集成到一小块芯片上,大大缩小了电路的体积。以计算机芯片为例,早期的计算机使用分立元件,体积庞大,而现在的集成电路技术使得计算机芯片体积非常小,从而实现了电子设备的小型化。例如,英特尔酷睿系列处理器,其尺寸相对很小,但却集成了大量的功能电路。

    • 高可靠性:由于元件之间的连接是通过集成电路制造工艺在内部完成的,减少了外部连接点,从而降低了因连接不良等因素导致的故障概率。同时,集成电路制造过程中的严格工艺控制也保证了其高可靠性。例如,航天设备中的集成电路需要在极端环境下工作,其高可靠性能够确保航天任务的顺利进行。

    • 低功耗:通过优化电路设计和制造工艺,集成电路能够在实现复杂功能的同时降低功耗。例如,移动设备中的芯片为了延长电池续航时间,需要具备低功耗的特性,集成电路技术使得这些芯片能够在满足性能要求的同时尽量减少能量消耗。

    • 高性能:随着集成电路技术的不断发展,其集成度越来越高,运算速度不断提高,信号处理能力也不断增强。例如,图形处理单元(GPU)集成电路在处理图像和视频数据时能够实现高速、高效的运算,满足现代游戏、视频编辑等对高性能图形处理的需求。

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(三)芯片

  1. 定义

    • 芯片(Chip),又称微电路(microcircuit)、微芯片(microchip)、集成电路(integrated circuit,IC),是指内含集成电路的硅片,体积很小,常常是计算机或其他电子设备的一部分。芯片是半导体元件产品的统称,是集成电路(IC)的载体,由晶圆分割而成。例如,我们常见的手机芯片、电脑芯片等,它们都是以芯片的形式存在,内部包含了复杂的集成电路。

  2. 特点

    • 功能多样性:芯片可以实现各种各样的功能,从简单的逻辑控制到复杂的数据处理、通信、图像处理等。例如,微控制器(MCU)芯片可以用于控制家电设备的运行,而中央处理器(CPU)芯片则是计算机的核心部件,负责执行各种指令和数据处理任务。

    • 集成度高:芯片内部集成了大量的集成电路和其他元件,以满足不同的功能需求。随着技术的发展,芯片的集成度不断提高,能够在更小的面积上实现更多的功能。例如,现代智能手机芯片集成了CPU、GPU、调制解调器等多个功能模块。

    • 标准化封装:芯片通常采用标准化的封装形式,便于在电子设备中进行安装和使用。常见的封装形式有双列直插式封装(DIP)、球栅阵列封装(BGA)等。这些封装形式不仅保护了芯片内部的电路,还提供了与外部电路连接的接口。

二、半导体与集成电路的区别

(一)概念范畴

  1. 半导体

    • 半导体是一类材料的统称,包括硅、锗、砷化镓等多种材料。它涵盖了更广泛的概念领域,除了用于制造集成电路外,还用于制造分立器件(如单独的二极管、晶体管等)、光电器件(如发光二极管、光电探测器等)和传感器(如温度传感器、压力传感器等)等。例如,普通的发光二极管(LED)是一种光电器件,它是由半导体材料制成的,但它不是集成电路。在2018年全球半导体行业市场规模为4607.63亿美元,其中集成电路市场规模为3897.97亿美元,这也说明半导体行业除了集成电路还有其他部分的市场份额,如分立器件、光电器件和传感器等。

  2. 集成电路

    • 集成电路是一种特定的电子器件,它是利用半导体材料的特性,将众多的有源器件(如晶体管)和无源元件(如电阻、电容等)集成在半导体晶片或介质基片上而形成的电路。它侧重于电路的集成化设计和制造,是半导体技术在电路集成方面的具体应用。例如,一个微处理器集成电路,它是将大量的晶体管、缓存、控制器等电路元件集成在一起,实现数据处理等功能,是一个高度复杂的电路集成体。

(二)结构组成

  1. 半导体

    • 半导体材料本身的结构相对简单,从原子结构层面来看,如硅是四价元素,其原子结构决定了它的半导体特性。在实际应用中,半导体材料可以是块状、片状或薄膜状等形式。例如,硅晶圆是一种常见的半导体材料形式,它是一片圆形的硅片,经过切割、研磨等工艺处理后,可用于制造各种半导体器件。

  2. 集成电路

    • 集成电路的结构非常复杂,它包含了众多不同类型的元件和多层布线。从物理结构上看,它有多个层次,包括衬底层(通常是半导体材料如硅)、有源层(包含晶体管等有源器件)、金属布线层(用于连接不同元件)、绝缘层等。例如,在一个现代的集成电路芯片中,可能有几十层甚至上百层的结构,这些结构共同构成了一个完整的电路系统,实现了如逻辑运算、存储、信号放大等各种功能。

(三)制造工艺

  1. 半导体

    • 半导体制造工艺主要侧重于半导体材料的制备和基本特性的控制。例如,硅半导体材料的制造过程包括硅的提纯、晶体生长(如通过直拉法或区熔法生长单晶硅)等过程。对于其他半导体材料如砷化镓,其制造工艺又有不同的特点,如需要特殊的生长环境和工艺参数控制。在制造半导体材料的过程中,要严格控制杂质含量,因为杂质对半导体的电学性能有很大影响。

  2. 集成电路

    • 集成电路制造工艺则是在半导体材料的基础上,进行更加复杂和精细的加工。它包括光刻、蚀刻、扩散、离子注入、金属化等多个工艺步骤。光刻工艺用于将电路图形转移到半导体晶片上,蚀刻工艺用于去除不需要的材料,扩散和离子注入用于改变半导体材料的电学性质以形成晶体管等有源器件,金属化工艺用于制作电路的连接布线。例如,在光刻工艺中,需要使用高精度的光刻机,其分辨率能够达到纳米级别,以实现更小尺寸的电路元件制造。

芯片封装清洗剂W3800介绍

芯片封装清洗剂W3800是针对PCBA(印刷线路板组装)焊后清洗开发的一款浓缩型环保水基清洗剂。主要用于清除电子组装件PCBA、功率LED器件及引线框架型分立器件上的锡膏或者助焊剂残留物。特别适用于助焊剂残留较多且顽固的PCBA清洗,本品在材料兼容性方面表现优越,适应于超声、喷淋等多种清洗工艺。

芯片封装清洗剂W3800的产品特点:

1、用去离子水按一定比例稀释后不易起泡,可以应用在在线和离线式喷淋清洗设备中。

2、清洗负载能力高,可过滤性好,具有超长的使用寿命,维护成本低。

3、适用于具有高精、高密、高洁净清洗要求的精密电子零件的清洗,适用于针对细间距和低底部间隙元器件的清洗应用。

4、浓缩型产品应用更宽广,选择不同的稀释比例灵活清洗不同残留。

5、对市场上大多数种类型的助焊剂和锡膏焊后残留均具有良好的清洗效果。

芯片封装清洗剂W3800的适用工艺:

W3800水基清洗剂适应于超声、喷淋等多种清洗工艺。

芯片封装清洗剂W3800产品应用:

芯片封装清洗剂W3800在材料兼容性方面表现优越,主要用于清除电子组装件PCBA、功率LED器件及引线框架型分立器件上的锡膏或者助焊剂残留物。特别适用于助焊剂残留较多且顽固的PCBA清洗,清洗时可根据PCBA残留物的状态,将本品按一定比例稀释后再进行使用,一般稀释比例应控制在 1:3~1:5。


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