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CPO(共封装光学/光电共封装)是将交换芯片和光引擎共同装配在同一个Socketed(插槽)上,形成芯片和模组的共封装。其制造工艺流程是一个涉及多领域技术融合的复杂过程。
首先,在原材料准备方面,需要准备好光电芯片、光学器件等关键组件,这些组件是构建CPO的基础材料。例如,对于采用硅光子的CPO技术,硅光模块和CMOS芯片就是重要的原材料 。
然后是封装过程,这个过程包括将光电芯片和其他光学器件按照设计要求进行组合封装。CPO技术常采用高级封装的形式,如2.5D或者3D封装,把硅光模块和CMOS芯片集成在一起,从而在成本、功耗和尺寸上提升数据中心应用中的光互连技术 。
在整个制造工艺流程中,还需要考虑光学设计的精确性。因为要实现光电转换效率的大幅提升,就需要合理安排各个组件的位置和连接方式,确保光信号在传输过程中的损耗最小化。同时,为了保证CPO产品的性能,在封装过程中还需要注意减少组件间的热应力、机械应力等因素,以提高产品的稳定性和可靠性 。
另外,由于CPO产品在工作过程中会产生热量,散热也是制造工艺流程中需要考虑的重要环节。比如通过液冷板降温等方式来降低功耗,确保产品在正常工作温度范围内运行,以满足其在不同应用场景下的需求,如高算力场景下对设备功耗和性能的要求等 。
光电芯片选型
这是CPO制造的起始步骤。光电芯片的性能直接影响CPO的整体性能。对于不同的应用场景,需要选择合适的光电芯片。例如,在基于VCSEL的多模方案中,适用于30m及以下距离,主要面向超算及AI集群的短距光互联;而基于硅光集成的单模方案则适用于2公里及以下距离,主要面向大型数据中心内部光互联 。
光电芯片的参数如响应速度、光输出功率等需要满足CPO设计要求。例如,在评估光电共封装技术性能时,光电转换效率公式为η=(光输出功率/输入光功率)×100%,通过这个公式可以直观地衡量光电芯片是否符合CPO的性能需求 。
其他光学器件准备
除了光电芯片,还需要准备如光收发器、光引擎等光学器件。这些器件的质量和性能同样对CPO至关重要。以光引擎为例,它是可插拔光模块的一种,在CPO中与交换芯片共同装配,其性能的好坏影响着光信号的传输质量和效率。
对于这些光学器件,在准备过程中需要进行严格的质量检测,确保其符合CPO制造的标准,如光学器件的光学性能指标(如折射率、透过率等)要在规定范围内。
芯片与模块对准
在将光电芯片和光引擎等模块进行封装时,首先要确保芯片与模块的精确对准。这一过程需要高精度的设备和技术手段。例如,在2.5D或者3D封装中,毫米甚至微米级的偏差都可能导致光信号传输的严重损耗或者电路连接的故障。
利用先进的对准技术,如光学对准、机械对准与电子对准相结合的方式,将光电芯片和其他模块准确地放置在预定位置,为后续的连接和封装奠定基础。
高级封装操作
采用高级封装形式,如2.5D或者3D封装技术,将光电芯片和其他相关芯片(如CMOS芯片)集成在一起。这种封装形式能够大大提高集成度,减少产品的体积。
在封装过程中,需要使用特殊的封装材料,这些材料要具备良好的光学性能、电气性能和热性能。例如,封装材料要能够有效地传导热量,减少热应力对芯片和器件的影响,同时还要保证光信号的传输效率。
封装过程中的连接技术也是关键,例如采用高密度及高带宽的连接器技术,确保芯片与芯片、芯片与模块之间的高速信号传输的稳定性和可靠性。
光电性能测试
对封装后的CPO进行光电性能测试是必不可少的步骤。通过测试光输出效率、光电转换效率、响应速度等指标,来评估CPO是否满足设计要求。例如,使用专业的光电测试设备,测量在不同输入光功率下的光输出功率,计算光电转换效率是否达到预期的数值。
如果测试结果不满足要求,就需要对CPO的制造工艺进行调整,如优化芯片与模块的连接方式、更换封装材料等,以提高光电性能。
稳定性与可靠性测试
进行稳定性和可靠性测试,包括在不同环境条件(如高温、高湿、高辐射等)下测试CPO的工作状态。这是因为CPO在实际应用中可能会面临各种恶劣的环境。
通过长时间的测试,观察CPO是否会出现性能下降、信号中断等问题。如果存在稳定性和可靠性问题,就需要对制造工艺中的散热设计、组件间的应力处理等方面进行改进。
硅光集成
硅光子技术在CPO制造中具有重要地位。硅光集成是将硅光模块和其他相关芯片(如CMOS芯片)集成在一起的关键技术。通过硅光集成,可以在同一硅基片上实现光的产生、传输、调制和探测等功能。
例如,在CPO中采用硅光集成技术,能够将光引擎和交换芯片集成在同一个封装内,大大缩短了光信号传输的距离,减少了信号损耗。与传统的通过PCB板连接硅光模块和CMOS芯片的方式相比,硅光集成技术可以显著提高光电转换效率和数据传输速率 。
突破带宽瓶颈
硅光子技术能够轻松突破现有带宽的瓶颈。在数据中心等对带宽要求极高的应用场景中,传统的光通信技术可能会受到带宽限制,而硅光子技术可以提供更高的带宽。例如,随着网络速度提高至800Gbps以上,可插拔光组件将遭遇密度和功率问题,而硅光子技术的CPO成为业界亟需的封装替代方案,能够满足高带宽的数据传输需求 。
2.5D和3D封装
2.5D和3D封装技术是CPO制造中的先进封装技术。2.5D封装是在封装基板和芯片之间加入了一个硅中介层,通过硅中介层上的微凸点将芯片与基板连接起来。这种封装方式可以提高芯片的集成度,减少封装的尺寸。
3D封装则是将芯片直接堆叠在一起,实现更高的集成度。在CPO制造中,采用2.5D或者3D封装技术可以将光电芯片、CMOS芯片等集成在一起,不仅提高了产品的性能,还能降低功耗和成本。例如,将硅光模块和CMOS芯片采用3D封装集成后,它们之间的数据连接质量相比PCB板连接有很大改善,能够降低功耗,并且在大规模量产之后,成本也能得到改善 。
封装材料创新
新型的封装材料也是CPO制造工艺中的先进技术之一。这些封装材料需要具备优异的光学性能、热性能和电气性能。例如,一些具有高导热性的封装材料可以有效地将芯片产生的热量传导出去,避免芯片过热影响性能。
同时,封装材料的光学性能要能够保证光信号在封装内部的高效传输,如具有合适的折射率、低散射率等特性的材料,可以减少光信号的损耗。
液冷技术
液冷技术在CPO制造工艺中是解决散热问题的有效手段。在高算力场景下,CPO设备产生的热量较高,传统的风冷方式可能无法满足散热需求。液冷技术通过冷却液在CPO设备的散热通道中循环,将热量带走。
例如,将CPO设备(如交换机等)和光模块等耦合在背板PCB上,并通过液冷板降温,可以有效地降低功耗。液冷技术相比风冷具有更高的散热效率,可以确保CPO在高负载运行时的稳定性和可靠性 。
散热结构优化
除了采用液冷技术,散热结构的优化也是CPO制造工艺中的重要散热技术。通过设计合理的散热结构,如增加散热鳍片的面积、优化散热通道的布局等,可以提高散热效率。
在CPO封装内部,合理安排散热结构可以使热量更快速地散发出去,减少热应力对芯片和器件的影响,从而提高产品的稳定性和可靠性。
以亨通洛克利推出的基于硅光技术的3.2T CPO工作样机为例。
在组件准备阶段,选择了合适的硅光芯片和核心交换芯片。硅光芯片具备高带宽、低功耗等特点,能够满足3.2T数据传输的需求,而核心交换芯片则具有高效的数据处理能力。这些芯片在选型过程中经过了严格的性能测试和评估,确保其符合CPO样机的设计要求 。
在封装集成阶段,采用了核心交换芯片与光引擎在同一高速主板上的协同封装概念。这一过程中,首先进行了芯片与模块的精确对准,利用高精度的对准设备确保光引擎与核心交换芯片的准确连接。然后,采用了先进的封装技术(可能是2.5D或者3D封装类似的技术)将硅光芯片和其他相关芯片集成在一起。在封装过程中,使用了特殊的封装材料,这些材料既能保证良好的电气连接,又能有效地传导热量,减少热应力对芯片的影响。
在性能测试与优化阶段,对封装后的3.2T CPO样机进行了全面的光电性能测试。测试结果显示,通过缩短光电转换功能到核心交换芯片的距离,达到了缩短高速电通道链路的效果。在光电转换效率方面,通过测量光输入和光输出功率,计算得到的光电转换效率符合预期目标。同时,在稳定性和可靠性测试中,将样机置于不同的环境条件下(如高温、高湿环境)进行长时间测试,未发现明显的性能下降或信号中断问题。这表明在制造工艺中,散热设计、组件间的应力处理等方面的设计是合理有效的。
通过这个实例可以看出,CPO制造流程中的各个环节紧密相连,从组件准备到封装集成再到性能测试与优化,每个步骤都对最终产品的性能、稳定性和可靠性有着重要的影响。
数据收集与关键指标确定
在CPO制造工艺流程中,要收集各个环节的数据,如芯片制造过程中的工艺参数(蚀刻尺寸、晶圆尺寸等)、封装过程中的温度、压力等参数以及性能测试中的光电转换效率、响应速度等数据。
确定关键性能指标(KPIs),如光电转换效率、产品的稳定性和可靠性等。这些KPIs是衡量CPO制造工艺优劣的重要标准。例如,通过分析光电转换效率的数据,可以了解制造工艺对光信号转换的影响程度。
数据分析与问题识别
利用数据分析工具(如数据挖掘、机器学习等技术)对收集到的数据进行深入分析。例如,通过对大量的光电转换效率数据进行分析,可以建立数据模型,找出影响光电转换效率的关键因素,如芯片的质量、封装材料的光学性能等。
通过数据分析识别出制造工艺流程中的问题环节。例如,如果在稳定性测试中发现CPO在高温环境下性能下降,通过分析相关数据(如封装过程中的热应力数据、散热结构的数据等)可以确定是散热设计存在问题还是封装材料的热性能不佳。
流程重组与简化
对CPO制造工艺流程进行重新审视,找出可以简化或者合并的步骤。例如,如果在芯片准备阶段和封装阶段存在一些重复的检测环节,可以考虑将这些环节合并,以减少生产时间和成本。
重新规划工艺流程的顺序,以提高生产效率。比如,在某些情况下,可以先进行部分性能测试,然后再进行后续的封装步骤,这样如果在性能测试中发现问题,可以及时调整,避免在后续工序中造成更大的浪费。
引入先进技术和工艺
在CPO制造中不断引入先进的技术和工艺。例如,随着硅光子技术的不断发展,及时将新的硅光集成技术引入到制造工艺中,可以提高光电转换效率和产品的性能。
采用新的封装技术,如更先进的2.5D或者3D封装技术的改进版本,可以进一步提高芯片的集成度和产品的可靠性。同时,引入新的散热技术,如更高效的液冷技术或者新型的散热结构设计,可以解决CPO在高功率运行时的散热问题。
设备维护与升级
定期对CPO制造过程中的设备进行维护,确保设备的正常运行。例如,对于用于芯片蚀刻的设备,定期检查设备的蚀刻精度,清洗设备的关键部件,以保证蚀刻尺寸的准确性。
根据制造工艺的发展需求,及时对设备进行升级。如随着芯片制造工艺向更小的蚀刻尺寸发展,需要对蚀刻设备进行升级,以满足新的工艺要求。
人员培训与技能提升
对参与CPO制造的人员进行专业培训,包括芯片制造、封装技术、性能测试等方面的知识和技能培训。例如,对负责芯片对准的操作人员进行高精度对准技术的培训,提高其操作的准确性。
鼓励员工不断学习和掌握新的技术和工艺,建立员工技能提升的激励机制。这样可以提高员工的整体素质,从而提高CPO制造工艺的水平。
功率器件芯片清洗剂选择:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
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