半导体制造材料(6)-湿电子化学品

半导体制造材料(6)-湿电子化学品

湿电子化学品（Wet Chemicals）又称工艺化学品，是指主体成分纯度大于99.99%，杂质离子和微粒数符合严格标准的化学试剂。广泛用于芯片、显示面板、太阳能电池、LED 等电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺杂等工艺环节。在IC芯片制造中，湿电子化学品可有效清除晶圆表面残留污染物、减少金属杂质含量，为下游产品质量提供保障。

一、湿电子化学品生产过程：

电子湿化学品的主要工艺流程包括原料接收、纯化、吸收、混配等，其中核心工艺环节包括纯化和混配。纯化主要通过采用杂质离子深度反应，超重力反应/耦合分离等工艺，实现了杂质离子深度分离；利用纳滤膜分离技术，实现微纳颗粒的高效分离去除。功能电子湿化学品会涉及混配工艺，按需设计配方后将多种纯化后产品与添加剂进行精密混配。

图1. 湿电子化学品生产流程

湿电子化学品的关键生产技术包括混配技术、分离技术、纯化技术以及与其生产相配套的分析检验技术、环境处理与监测技术、包装技术等。

表1. 湿电子化学品关键技术

二、湿电子化学品应用分类：

按照组成成分和应用工艺不同，湿电子化学品可分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品，通用湿电子化学品一般为单组份、单功能、被大量使用的液体电子化学品，例如酸类、碱类、有机溶剂类等；功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的化学品，如剥离液、显影液、刻蚀液、清洗液等。 

表2. 湿电子化学品分类

湿化学品作为对产品性能、可靠性、成品率有直接影响的关键性材料，通常要求超净、高纯，对于金属杂质、颗粒数等都有严苛的要求。按照SEMI标准，湿化学品通常可由低到高分为G1-G5五个等级，对于金属杂质、颗粒数等的要求也依次更高，而不同应用领域对于湿化学品的要求也不同，要求最高的IC制造领域通常会要求达到G4、G5等级。

表3. 湿电子化学品技术标准

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