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先进封装的失效分析的极大难点解析与先进封装清洗介绍

先进封装技术给半导体行业带来了变革,市场对更小、更快、更低能耗、更大算力的电子设备的需求驱动了近年来先进封装的快速发展,它追求结构的进一步微型化、更高集成度、更多功能性,以及更好的散热控制。

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▲当前先进封装的失效分析存在诸多挑战

难点一:结构、尺寸和材料的创新

复杂的封装结构如flip chip,3D封装和系统级封装,使找到或识别失效的根本原因非常困难。微缩化和高密度的互联结构给精确识别和分析缺陷带来挑战。另外,多层堆叠的互联和多样的封装材料进一步提高了失效分析的难度。

3D X射线检测的高分辨三维成像和无损的特点使它逐渐成为先进封装失效分析的必要手段。

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▲晶圆级扇出(WLFO)封装中C4 bump的裂纹和元素分析

难点二:深埋结构的触达

此外,难以触及到先进封装内部的结构和互联使电性探针测试和物性检测更具挑战性,如3D封装或倒装芯片。

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▲使用飞秒激光和离子束制备的不同先进封装结构的截面及制样用时

难点三:兼顾效率和成本

在不同设备间切换样品时常需费时重新定位感兴趣区域,关联显微技术有效地解决这一难题,不仅可以在光镜和电镜之间实现关联,也可以在3D X射线显微镜和电镜之间完成关联。

先进芯片封装清洗:

研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。

推荐使用 水基清洗剂产品。


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