先进封装平台5种热门封装方式强力介绍与芯片封装清洗浅谈

一、FO 封装FO封装包括三大类：核心扇出型（core fan-out）、高密度扇出型（high-density fan-out）和超高密度···

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硅片清洗的方法

硅片清洗的方法硅片清洗的英文名:siliconwafercleaning,为了防止器件失效,在半导体器件生产过程中硅片必须经过严格清洗,硅片···

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MEMS芯片三种制造工艺与芯片封装清洗介绍

MEMS芯片三种制造工艺体微加工技术、表面微加工技术、LIGA技术等是MEMS制造的主要工艺，前两者目前应用最广、技术最成熟。体微加工（Bu···

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Bumping圆片级凸点技术和工艺流程介绍与芯片封装清洗介绍

二十世纪60年代，IBM发明了芯片倒装焊技术，即可控塌陷芯片连接（C4: Controlled Collapse Chip Connecti···

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回流焊炉膛清洗方法

回流焊炉膛清洗方法回流焊是电子制造领域的重要设备之一，我们日常生活中的手机、电脑笔记本等电子产品板卡上的元件都是通过这种工艺焊接到线路板上的···

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半导体生产过程中清除颗粒物、金属离子和有机杂质的方法分类介绍

上世纪50年代以后，随着离子注入、扩散、外延生长和光刻四种基本工艺的发明，半导体工艺逐渐发展起来。芯片被颗粒和金属污染，容易导致短路或开路等···

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Plasma在半导体封装的应用与等离子清洗优缺点

1、什么是等离子体（Plasma）Plasma是物质的第四种状态气相混合体中性的、具有物理活性和化学惰性的一类物质2、Plasma的组成a.···

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芯片清洗工艺的技术发展方向

芯片清洗工艺的技术发展方向芯片清洗工艺是指将芯片制造过程中产生的各类污染物、杂质等有害物质清除，以确保芯片的质量和可靠性。芯片制造是现代电子···

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