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云、边缘计算正在推动高端高性能封装的采用与高性能半导体封装清洗介绍

发布日期:2023-07-07 发布者: 浏览次数:5306

一、为什么我们需要高性能封装?


随着前端节点越来越小,设计成本变得越来越重要。高级封装 (AP) 解决方案通过降低成本、提高系统性能、降低延迟、增加带宽和电源效率来帮助解决这些问题。
 高端性能封装平台是 UHD FO、嵌入式 Si 桥、Si 中介层、3D 堆栈存储器和 3DSoC。
 数据中心网络、高性能计算和自动驾驶汽车正在推动高端性能封装的采用,以及从技术角度来看的演变。今天的趋势是在云、边缘计算和设备级别拥有更大的计算资源。因此,不断增长的需求正在推动高端高性能封装的采用。


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二、高性能封装市场规模?


 据Yole预测,到 2027 年,高性能封装市场收入预计将达到78.7亿美元,高于 2021 年的27.4亿美元,2021-2027 年的复合年增长率为 19%。到 2027 年,UHD FO、HBM、3DS 和有源 Si 中介层将占总市场份额的 50% 以上,是市场增长的最大贡献者。嵌入式 Si 桥、3D NAND 堆栈、3D SoC 和 HBM 是增长最快的四大贡献者,每个贡献者的 CAGR 都大于 20%。
 由于电信和基础设施以及移动和消费终端市场中高端性能应用程序和人工智能的快速增长,这种演变是可能的。高端性能封装代表了一个相对较小的业务,但对半导体行业产生了巨大的影响,因为它是帮助满足比摩尔要求的关键解决方案之一。


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三、高性能半导体封装清洗

半导体芯片封装过程中通常会使用助焊剂和锡膏等作为焊接辅料,这些辅料在焊接过程或多或少都会有部分残留物,还包括制程中沾污的指印、汗液、角质和尘埃等污染物。同时,半导体组装了铝、铜、铂、镍等敏感金属和油墨字符、电磁碳膜和特殊标签等相当脆弱的功能材料。这些敏感金属和特殊功能材料对清洗剂的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工艺解决方案,可在清洗芯片封装基板的焊接残留物和污垢的同时去除金属界面高温氧化膜,保障下一道工序的金属界面结合强度;对芯片半导体基材、金属材料拥有优良的材料兼容性,清洗后易于用水漂洗干净。

欢迎使用 半水基清洗剂W3300!

以上便是芯片封装基板清洗,封装基板的主要结构和生产技术的介绍,希望可以帮到您!


Tips:

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以上为本公司一些经验的累积,因工艺问题内容广泛,没有面面俱到,只对常见问题作分析,随着电子产业的不断更新换代,新的工艺问题也不断出现,本公司自成立以来不断的追求产品的创新,做到与时俱进,熟悉各种生产复杂工艺,能为各种客户提供全方位的工艺、设备、材料的清洗解决方案支持。

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